MEMSウェーハを効率的に乾燥させる方法 MEMSセンサーを製造する際、水分は大敵です。しかし、単に高温で加熱するだけでは不十分です。過度な熱ストレスやわずかな汚染があれば、高価なウェーハが台無しになってしまいます。 そのため、私たちは高出力の赤外線ヒーターを使用します。これにより、迅速に乾燥させ...

無駄なエネルギーの消費をやめましょう シリコンウェーハを加熱するとき、1ワットでも無駄にしてはいけません。 問題は、一般的な石英ランプはエネルギーをあらゆる方向に放出してしまう点です。360度全方位に放射されるため、実際に加熱されるべきウェーハではなく、機械自体が加熱されてしまいます。これは明らか...

製造ラインでカーボン排出を削減しつつ、生産性を損なわない方法 正直に言って、半導体製造工場でカーボンニュートラルの目標を達成するのは大変です。エネルギーの無駄遣いが多く発生するのは、ウェハの加熱や硬化の段階です。これは明らかに非効率的です。そのため、私たちは精密なIR加熱技術を活用しています。より...

なぜ、無鉛半導体の製造に赤外線硬化法を採用したのか 正直言って、昔ながらの対流式オーブンは使いづらいものです。業界がウェハー製造において無鉛基準を採用するようになり、私たちはすべてを見直さざるを得ませんでした。部屋全体を温める代わりに、赤外線硬化法を利用するようになったのです。 なぜでしょうか？そ...

ファブ内では、よく知られている通り、ウェーハが洗浄工程を経て出てきたときには、まだ微少量の水分が残っています。その水分を取り除くには、ホットプレートを使って数分間かかります。1分1分が工程時間を長引かせてしまいます。さらに悪いことに、均一でない加熱によって熱応力が生じ、それがパターンのずれとして現...

製造現場においては、0.5℃程度の温度変動だけで、ウェハの寸法が変わってしまい、多くのウェハが廃棄処分されてしまいます。もしウェハヒーターが24時間365日の稼働でもフォトレジストの加熱プロファイルを維持できない場合、生産性と稼働時間の間で苦しい選択を迫られます。私たちは、ラインが絶対に停止しては...

パッケージング工程においては、焼成温度が半度ほど変動するだけで、一つのカセット全体が廃棄処分になってしまいます。フォトレジストのプロファイルが変わり、アンダーフィル部分に空洞が生じ、さらに再加工によるコストも増大します。ウェーハレベルのCSPでは、通常のパッケージよりも厳格な温度管理が求められるた...

MEMSウェーハが最終リンスから出てくる様子を観察してください。乾燥ヒーターが十分に機能しなければ、ウォーターマークが発生し、その結果、フォトレジストの付着不良が起こり、計測段階に至る前にロット全体が不良品になります。当社はその変動要因を排除するためにMEMSウェーハ乾燥ヒーターを開発しました。...

ライン上ではドリフトは許されない。ウェーハ全体でわずかに数十分の1℃でもずれたソフトベークは、フォトレジストのプロファイルに現れる―エッジビードの不均一、膜厚勾配、規格外へ逸脱するライン幅制御などだ。洗浄直後の乾燥工程は、残留水分や微小液滴痕が収率低下の原因となる段階であり、高価なマスクや露光工程...