Litografi işlemlerinde, 300 mm’lik waferlerin ısınmasını beklemesi gerekmez. Yumuşak ve sert ısıtma yöntemleri, ısı kontrolünü sağlar; ancak sıcaklık dalgalanmaları veya eşit olmaması durumunda çizgi genişliği kontrolü bozulur. Bu değişkenlikleri ortadan kaldırmak için uzun ömürlü kızılötesi ısıtma tüpleri kullanılmıştır.
Teknik açıdan önemli olanlar:
Bu tüpler, kuvars kaplamalı yapılar içinde kısa dalga boylu kızılötesi ışınlar üretir; bu sayede saniyeler içinde hızlı bir ısıtma gerçekleşir. Isıtma bölgesinde sıcaklık ±0,1°C civarında sabit tutulur; böylece her wafer aynı ısısal koşullara maruz kalır. Çıkış gücü 5.000 saatten fazla süre boyunca stabil kalır ve yoğunluk kaybı %5’in altındadır. Temiz oda koşulları da tasarıma dahil edilmiştir; bu tüpler Class 1–100 ortamlarıyla uyumludur ve çalışırken hiçbir parça yayılmaz.
Üretimde neden başarılı oluyor?
Bu tüpler, sadece bir sıcaklık değeri için değil, işlem süreci için tasarlanmıştır. Fotoresist ısıtma işlemlerinde, belirlenen sıcaklık değerleri hassas bir şekilde uygulanır ve bu da farklı vardiya ve partiler arasında tutarlılık sağlar. Böylece daha yüksek verim elde edilir, termal dalgalanmalardan dolayı atık wafer sayısı azalır ve bakım işlemleri planlanabilir hale gelir. Ayrıca, sistem talep üzerine ısınır ve aşırı ısınma olmadan sabit kalır; bu da enerji tüketimini azaltır.
Bazı pratik bilgiler:
Montaj ve hizalama oldukça hassastır. Tüp, cihazın belirlediği alanlar içinde yerleştirilmelidir; aksi takdirde sıcak noktalar oluşabilir ve eşitlik bozulur. Her lamba başladığında, tam performansa ulaşmadan önce kısa bir ısınma süreci gereklidir. Lamba değişimi, planlanan periyodik bakım işlemleriyle birlikte yapılmalıdır. Kullanıma almadan önce voltaj ve konektör arayüzünün ekipmanın özelliklerine uygun olduğundan emin olunmalıdır.