Op de productieafdeling is het proces vrij eenvoudig: een wafer komt uit het reinigingsproces en bevat nog steeds microliters water. Het duurt minuten voordat de hittebronnen het water uit de wafer hebben verwijderd. Elke minuut die extra kost, verlengt dus de totale tijd die nodig is voor het proces. Bovendien kan ongelijkmatige verwarming leiden tot thermische spanningen, waardoor er problemen kunnen optreden met de precisie van de wafer. De NIR-waferdroger is speciaal ontworpen om dit probleem op te lossen.
Wat technisch gezien belangrijk is: Nabije infraroodstraling bereikt direct het water en de fotoresist. Hierdoor wordt de oppervlakte binnen enkele seconden op de gewenste temperatuur gebracht, zonder dat er sprake is van geleiding van warmte. De temperatuurovereenstemming over de hele wafer blijft binnen ±0,1°C, en de herhalbaarheid tussen verschillende batches ligt binnen ±0,2°C. De verwarmingsarrangementen bestaan uit kwarts-halogeenemittoren die zijn afgestemd op het nabije infraroodgebied. We houden de temperatuur nauw in de gaten met behulp van pyrometrie recht op het oppervlak van de wafer.
Ook de hoeveelheid deeltjes die worden gegenereerd, blijft laag. De kamer is compatibel met Class 1–100 standaarden, met laminaire luchtcirculatie en een HEPA-filtersysteem. Het gebruik van contactloze bevestigingssystemen zorgt ervoor dat de voorzijde van de wafer schoon blijft – er zijn geen mechanische sporen te bekennen.
Waarom deze droger geschikt is voor de productieafdeling: Je hebt een droger nodig die kan worden geplaatst tussen de spintrack en de lithografiecel, zonder dat dit invloed heeft op de indeling van de apparatuur. Deze droger neemt weinig ruimte in beslag, werkt via de standaard SECS/GEM-protocollen en kan 24/7 draaien, zonder onverwachte stilstanden. Er zijn verschillende programmaschema’s beschikbaar, zodat operators geen extra instellingen hoeven aan te passen wanneer het product verandert.
De energieverbruik wordt verminderd, omdat de NIR-straling alleen het gewenste gebied opwarmt, en niet de hele wafer. Hierdoor blijft de temperatuur van de fotoresist binnen de specifieke grenzen. Dit resulteert in minder fouten bij het productieproces.
Wat je moet planningen: De NIR-droger heeft zijn eigen stroomvoorziening en een zuiver koelsysteem nodig om de gewenste temperatuur te behouden. Hij werkt met de meeste 300 mm-apparaten, maar je moet tijdens de installatie nog wel controleren of de mechanische verbindingen en afvoerkanalen goed zijn. Er is ongeveer twee weken nodig voor de kalibratie en het opstellen van de juiste instellingen. Eenmaal geïnstalleerd, is het proces zeer efficiënt en voorspelbaar.