
Pada garis 300mm, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pembakaran bahan fotoresist sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan produk yang dihasilkan. Kami mencipta lampu pemanasan inframerah ini untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku – bukan melalui cara yang spektakular, tetapi melalui prestasi termal yang konsisten dalam keadaan sebenar di kilang pengeluaran.
Apa yang penting di sebaliknya
Lampu-lampu ini menggunakan elemen inframerah gelombang pendek yang mempunyai respons yang cepat dan kawalan spektrum yang tepat. Dengan cara ini, tenaga akan dialirkan terus ke permukaan yang perlu dipanaskan, bukannya ke seluruh bilik. Di permukaan wafer, suhu yang dicapai adalah antara ±0.1°C, dan ini diukur di posisi-posisi yang penting dalam proses pengeluaran. Reka bentuk lampu ini juga memastikan bahawa tiada pelepasan bahan berbahaya, kerana ia menggunakan bahan-bahan berkualiti tinggi serta reka bentuk yang mengawal pelepasan partikel. Anda boleh mengharapkan hasil yang konsisten dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain, tanpa perlu sentiasa menyesuaikan tetapan.
Mengapa ia berguna dalam proses litografi
Proses pemprosesan bahan fotoresist sangat bergantung pada faktor termal. Lampu-lampu ini membantu menjaga suhu yang stabil semasa proses pembakaran, sehingga memudahkan kawalan dimensi produk yang dihasilkan dan mengurangkan keperluan untuk proses pembaikan. Respons termal yang cepat pula memendekkan masa proses dan mengurangkan penggunaan tenaga. Selain itu, laluan haba yang terfokus ini membolehkan penggunaan tenaga yang lebih sedikit berbanding dengan ketuhar biasa. Ketepatan ini turut membantu dalam proses pembungkusan dan pengeringan – kurangnya rongga, permukaan yang lebih bersih, dan hasil yang lebih baik.
Butiran praktikal
Anda perlu menyediakan sistem bekalan kuasa dan penyejukan yang sesuai. Stabiliti termal bergantung pada suhu cecair penyejuk yang stabil serta penempatan komponen yang tepat. Pengintegrasian lampu ini mudah dilakukan pada landasan standard, tetapi anda perlu memastikan bahawa penempatan optik dan sensor sesuai dengan geometri substrat. Lakukan ujian awal untuk menentukan profil termal yang tepat. Setelah itu, proses pengeluaran akan berjalan dengan lancar.