在晶圆加工车间里，流程其实很简单：晶圆从清洗工序出来后，表面仍会残留微量水分。使用加热板去除这些水分需要数分钟时间，而每多花一分钟，整个工艺流程的时间就会增加。更糟糕的是，不均匀的加热会导致热应力，进而使晶圆上的图案出现错位现象。NIR晶圆干燥机就是为了解决这些问题而设计的。
从技术层面来看，它具有以下优势： 近红外能量可以直接作用于水分子和光阻层上，因此无需等待热量传导，就能在几秒钟内让表面达到设定温度。晶圆表面的温度均匀性可保持在±0.1℃范围内，而不同批次之间的重复性则可控制在±0.2℃以内。该干燥机采用石英-卤素光源，其波长恰好处于近红外范围内。此外，还有闭环温度控制系统，能够精确控制晶圆表面的温度。
此外，该干燥机还能有效减少颗粒的产生。其工作环境符合Class 1–100标准，具备层流气流以及HEPA过滤器，因此可以确保晶圆表面保持清洁，不会留下任何机械痕迹。
为什么它适合用于晶圆加工车间？ 因为这种干燥机可以安装在旋转装置和光刻设备之间，而不会破坏现有的布局。它的体积很小，而且可以通过标准的SECS/GEM协议进行控制，因此可以全天候运行，不会出现意外停机的情况。此外，其预烧和高温烘烤程序都是预先设定好的，因此当产品规格发生变化时，操作员无需再次调整参数。
由于近红外能量只作用于目标区域，而非整个晶圆，因此能耗也会降低。如此一来，光阻层的烘烤效果就能保持在最佳状态，从而减少CD偏差和重复加工的需要。
需要考虑的因素： 这种NIR干燥机需要独立的电源供应以及稳定的冷却系统，以确保温度稳定。虽然它可以与大多数300毫米直径的晶圆处理设备配合使用，但在安装过程中还是需要仔细检查机械接口和排风系统。
通常，需要大约两周的时间来完成调试和参数设置。一旦一切就绪，整个工艺流程就会变得非常可靠且可控。