在芯片制造过程中，潮湿的载盘不仅会成为生产瓶颈，还容易引发污染问题。残留的水分会导致表面缺陷，而哪怕是一点点的湿气都可能影响产品的合格率。传统的干燥方式会产生温度梯度，使得水分滞留在载盘的边缘和角落。因此，需要一种能够彻底烘干整个载盘的干燥设备，而不仅仅是其中心部分。
红外加热：亚毫米级均匀性，可重复性强
我们设计的这种载盘清洗红外干燥机，依靠可控的近红外辐射以及高度均匀的热场来工作。这样一来，整个载盘表面的温度分布都非常均匀，即使载盘上的物品排列方式发生变化，这种均匀性也能保持不变。在光刻工艺中，无论是软烘还是硬烘步骤，都依赖于稳定的温度控制。该系统能够持续提供稳定的温度环境，确保每次处理结果的一致性。它适用于1-100级的洁净室环境，运行过程中不会产生任何颗粒物，而且其加热模式具有高度的可重复性，便于进行过程控制。
为何这对芯片制造至关重要
在光刻和光阻处理过程中，产品的合格率取决于温度是否稳定。这款干燥机能够快速去除载盘上的水分，且不会造成热冲击，也不会留下难以均匀蒸发的水珠。这样一来，生产效率更高，返工次数更少，废品率也更低。此外，由于红外辐射是直接作用于物体本身，而非周围的空气，因此能耗更低。此外，该设备设计为可以24/7连续运行，维护周期明确，不会出现意外停机情况。
安装与操作说明
该设备可以直接安装在现有的清洗台上，但需要配备专用的电源电路以及合适的排风系统，以维持洁净室内的压力平衡。还需注意载盘材料的 Compatibility——某些聚合物对红外线的吸收能力不同。在正式使用前，应通过短时间的测试来确定适当的处理时间和温度。一旦完成校准，该设备就能以高重复性满足芯片制造过程中的要求。