Di ruang pengeluaran, prosesnya adalah seperti berikut: Wafer yang keluar dari proses pencucian masih mengandungi mikroliter air di permukaannya. Memerlukan masa beberapa minit untuk membuang kelembapan tersebut menggunakan pemanas, dan setiap minit tambahan akan memanjangkan masa proses tersebut. Lebih buruk lagi, pengedaran haba yang tidak sekata boleh menyebabkan tekanan termal yang seterusnya menyebabkan ketidaksepadanan pola pada permukaan wafer. Pengering wafer jenis NIR dibina khusus untuk menyelesaikan masalah ini.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Tenaga inframerah dekat memberi kesan langsung pada air dan lapisan fotoresist. Oleh itu, suhu permukaan wafer dapat dicapai dalam masa beberapa saat sahaja, tanpa perlu menunggu proses pengaliran haba. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, manakala kebolehulangan hasil pengeluaran pula kekal dalam lingkungan ±0.2°C. Sistem pemanas menggunakan pengeluar tenaga jenis kuarsa-halogen yang diselaraskan dengan gelombang inframerah dekat. Kita juga dapat mengawal suhu dengan tepat menggunakan sistem pengukuran suhu tertutup yang terdapat pada permukaan wafer itu sendiri.
Jumlah zarah yang terhasil juga rendah. Bilik pengeringan ini sesuai digunakan dalam lingkungan kelas 1–100, dengan aliran udara yang teratur serta sistem pengudaraan yang efektif. Sistem pengikatan wafer tanpa sentuhan memastikan bahagian depan wafer tetap bersih, tanpa sebarang kesan mekanikal yang perlu dirisaukan.
Mengapa ia sesuai untuk digunakan di ruang pengeluaran:
Anda memerlukan pengering yang boleh diletakkan di antara alat pemutar wafer dan sel litografi, tanpa merosakkan susunan komponen yang ada. Alat ini mempunyai saiz yang kecil, boleh beroperasi melalui protokol SECS/GEM yang standard, dan boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan. Profil pemanasan yang digunakan juga mudah dikawal, jadi apabila produk berubah, para pekerja tidak perlu menyesuaikan tetapan pemanasan semula.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana inframerah dekat hanya memanaskan permukaan wafer sahaja, bukan keseluruhan struktur wafer. Lapisan fotoresist juga dipanaskan mengikut spesifikasi yang ditetapkan, jadi ralat pada ketepatan ukuran wafer dapat dikurangkan, dan keperluan untuk memperbaiki produk juga berkurangan.
Apa yang perlu dirancang:
Pengering jenis NIR memerlukan sumber tenaga khas serta sistem penyejukan yang efektif untuk mengekalkan suhu yang stabil. Ia boleh digunakan bersama kebanyakan alat pemutar wafer berukuran 300 mm. Namun, anda masih perlu memastikan keserasian antara komponen mekanikal dan saluran pengudaraan semasa pemasangan. Proses penyesuaian alat ini biasanya memerlukan masa kira-kira dua minggu. Setelah disesuaikan, proses pengeluaran akan berjalan dengan lancar dan dapat diramalkan.