근적외선(NIR) 웨이퍼 건조기

팹에서는 잘 알려진 원리가 적용됩니다. 웨이퍼가 세정 공정을 거친 후에도 여전히 미세한 양의 물이 남아 있습니다. 이러한 수분을 제거하는 데에는 몇 분이 걸리며, 매분마다 처리 시간이 늘어납니다. 게다가 균일하지 않은 가열으로 인해 열응력이 발생하여 패턴의 정렬이 어...