팹에서는 잘 알려진 원리가 적용됩니다. 웨이퍼가 세정 공정을 거친 후에도 여전히 미세한 양의 물이 남아 있습니다. 이러한 수분을 제거하는 데에는 몇 분이 걸리며, 매분마다 처리 시간이 늘어납니다. 게다가 균일하지 않은 가열으로 인해 열응력이 발생하여 패턴의 정렬이 어긋날 수도 있습니다. NIR 웨이퍼 건조기는 바로 이 문제를 해결하기 위해 만들어졌습니다.
기술적으로 중요한 점 근적외선 에너지는 물과 포토레지스트에 직접 작용하기 때문에, 전도를 기다릴 필요 없이 몇 초 만에 표면 온도가 설정값에 도달합니다. 웨이퍼 전체의 온도는 ±0.1°C 이내로 유지되며, 로트 간의 반복성도 ±0.2°C 이내로 유지됩니다. 히터 배열은 NIR 범위에 맞춰 조정된 석영-할로겐 방출체를 사용하며, 웨이퍼 표면에서 직접 온도를 제어합니다.
또한 입자 발생도 적습니다. 챔버는 Class 1–100 기준을 충족하며, 층류형 공기 흐름과 HEPA 필터가 내장된 배기 시스템을 갖추고 있습니다. 접촉 없이 웨이퍼를 고정시키므로 기계적인 손상이 발생하지 않습니다.
왜 이 장비가 팹에 적합한가? 스핀 트랙과 리소그래피 장치 사이에 설치될 수 있는 건조기가 필요합니다. 이 장비는 공간을 적게 차지하며, 표준 SECS/GEM 프로토콜을 지원합니다. 또한 24/7으로 작동하므로 예상치 못한 다운타임이 발생하지 않습니다. 소프트 베이크와 하드 베이크 프로파일이 사전에 설정되어 있어, 제품이 변경되더라도 운영자는 추가로 설정을 변경할 필요가 없습니다.
NIR 건조기는 전체 프레임이 아닌 특정 부분만을 가열하기 때문에 에너지 소비가 줄어듭니다. 포토레지스트의 건조도도 규격 내에 유지되므로, CD 및 오버레이 오차가 줄어들고 재작업도 줄어듭니다.
준비해야 할 사항 NIR 건조기에는 안정적인 작동을 위해 별도의 전력 공급과 청정한 냉각 시스템이 필요합니다. 대부분의 300mm 트랙 장비와 호환되지만, 설치 시 기계적 인터페이스와 배기관을 반드시 확인해야 합니다.
검증 및 설정을 위해서는 약 2주 정도의 시간이 필요합니다. 일단 설정이 완료되면 공정 과정은 매우 예측 가능해집니다.