カセット洗浄用赤外線ドライヤー

ウェハ製造工程において、湿ったカセットは単なるボトルネックというだけでなく、汚染の原因にもなります。残っている水分が表面の欠陥を引き起こし、たった一つの水滴でも生産効率を台無しにする可能性があります。従来の乾燥方法では、熱の偏りが生じ、水が端や角部分に残ってしまいます。そのため、中心部だけでなく、...