Membuat Wafer MEMS Kering Tanpa Masalah
Saat memproduksi sensor MEMS, kelembapan merupakan musuh utama. Namun, kita tidak bisa sekadar menggunakan panas untuk mengeringkan wafer tersebut—terlalu banyak tekanan termal atau kontaminasi sedikit saja sudah cukup untuk merusak wafer yang mahal tersebut.
Itulah sebabnya kita menggunakan pemanas inframerah berintensitas tinggi. Pemanas ini mampu menyelesaikan tugasnya dengan cepat. Tidak perlu menunggu lama hingga oven konvensional bekerja, sehingga kita dapat menghemat ruang dan waktu produksi.
Kuncinya adalah daya yang digunakan.
Kita menggunakan radiasi inframerah berpanjang gelombang pendek, karena radiasi ini mampu menembus lapisan cairan di permukaan sensor. Kita juga menggunakan daya yang tinggi agar air langsung menguap begitu bersentuhan dengan panas. Jika hal ini tidak terjadi, maka akan muncul bintik-bintik air pada permukaan wafer. Di dunia MEMS, adanya bintik-bintik air berarti kerusakan pada sirkuit elektroniknya.
Tentu saja, ada keseimbangan yang perlu diperhatikan. Semakin tinggi dayanya, semakin cepat proses pengeringan, tetapi hal ini juga berarti sistem distribusi daya harus mampu menangani beban tersebut. Kita perlu menemukan titik keseimbangan yang tepat untuk kapasitas produksi kita.
Membuat Sistem Produksi Lebih “Cerdas”
Saat ini, semua orang menginginkan lebih banyak data. Kami memastikan bahwa sistem IR kami bisa berkomunikasi dengan perangkat yang sudah ada. Kami menggunakan kontroler PID dan sensor real-time yang dapat terhubung langsung ke sistem MES.
Pada dasarnya, ini merupakan catatan digital untuk setiap wafer yang diproses. Jika lampu mulai redup atau sensor tidak berfungsi dengan baik, sistem akan segera memberi peringatan. Hal ini jauh lebih baik daripada mengetahui setelahnya bahwa seluruh wafer telah rusak.
Kenyataan yang Rumit Terkait Perangkat Keras
Sistem-sistem ini bekerja 24/7, dan hal ini tentu saja memberikan beban besar pada perangkat kerasnya. Kami menggunakan lapisan kuarsa dan filamen khusus untuk menjaga kualitas cahaya, tetapi perangkat-perangkat ini tetap saja rentan terhadap kerusakan.
Karena radiasi inframerah bersifat direksional, penyesuaian posisi lampu sangat penting. Jika lampu hanya sedikit menyimpang dari posisi yang tepat, maka akan muncul daerah-daerah yang kurang kering pada wafer berukuran 200mm atau 300mm. Hal ini tentu saja akan menyebabkan masalah.
Selain itu, semua panas yang dihasilkan harus dialirkan ke suatu tempat. Jika sistem pendinginan chasis tidak berfungsi dengan baik, maka komponen elektronik di sekitar pemanas akan rusak. Ini merupakan keseimbangan yang rumit, tetapi jika semuanya disesuaikan dengan baik, maka sistem akan berfungsi dengan baik.