
Mengapa kita beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah untuk produk semikonduktor tanpa plumbum
Sejujurnya, ketuhar konvensional yang digunakan sebelum ini memang menyusahkan. Apabila industri beralih ke standard tanpa plumbum untuk alat-alat pembuatan wafer, kita terpaksa memikirkan cara yang lebih baik. Kita berhenti menggunakan cara pemanasan seluruh bilik, dan mula menggunakan kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah pula.
Mengapa? Kerana sinar inframerah dapat menembusi permukaan bahan tersebut secara langsung. Dengan cara ini, kita tidak perlu membazir tenaga untuk memanaskan ruangan yang penuh dengan udara. Prosesnya lebih cepat, dan kita juga tidak perlu risau tentang zarah-zarah berbahaya yang dihasilkan oleh elemen pemanas yang boleh merosakkan hasil kerja kita.
Mengurangkan pembaziran tenaga
Bayangkan saja seperti api unggun. Kita tidak perlu menunggu udara di sekeliling api menjadi panas sebelum merasai kehangatannya; kita akan merasakan kehangatan tersebut pada kulit kita dengan serta-merta. Itulah cara kerja sinar inframerah. Ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk menghantar tenaga secara langsung ke permukaan wafer.
Perbezaan masa pemanasan sangat ketara. Kita tidak perlu membazir tenaga untuk memanaskan udara hingga mencapai suhu yang diinginkan. Selain itu, kerana haba yang dihasilkan sangat terkonsentrasi, mesinnya boleh dibuat lebih kecil. Kita tetap dapat melakukan kerja yang sama, tetapi ruang yang diperlukan untuk mesin tersebut menjadi lebih sedikit.
Menjaga kebersihan
Kaedah pengeringan konvensional biasanya melibatkan penggunaan pelarut kimia atau katalis yang berbau busuk, dan berbahaya apabila dipanaskan. Dengan sinar inframerah, kita boleh menyesuaikan panjang gelombang cahaya agar sesuai dengan keperluan bahan yang ingin dikeringkan. Ini memastikan proses pengeringan berjalan dengan sempurna, tanpa menghasilkan bahan berbahaya.
Cabaran yang perlu dihadapi
Namun, sinar inframerah bukanlah penyelesaian yang sempurna. Ia mempunyai beberapa kekurangan. Masalah utamanya ialah keseragaman suhu. Jika wafer tersebut mempunyai ketebalan yang berbeza atau terdiri daripada pelbagai bahan, maka akan timbul kawasan yang terlalu panas. Untuk mengelakkan hal ini, kita perlu memilih sensor dan pengawal PID yang tepat.
Ia merupakan proses yang memerlukan keseimbangan yang tepat. Jika lampu terlalu dekat, wafer akan terbakar. Jika terlalu jauh pula, proses pengeringan akan memakan masa yang lama. Kita perlu mencari titik keseimbangan antara jarak dan kuasa yang digunakan agar hasilnya sempurna.