Pada proses pembuatan chip dengan ukuran 300mm, penyimpangan suhu sebesar setengah derajat selama proses pemanasan fotoresist sudah cukup untuk merusak seluruh batch produksi. Kami menciptakan lampu pemanas inframerah ini untuk mencegah hal tersebut terjadi—bukan karena promosi semata, melainkan karena kinerja termal yang konsisten dan dapat diandalkan dalam kondisi produksi yang sesungguhnya.
Yang penting bagi kinerja lampu ini
Lampu ini menggunakan elemen inframerah berfrekuensi rendah yang memiliki respons cepat dan kontrol spektral yang akurat. Dengan demikian, energi cahaya langsung ditujukan ke target yang diinginkan, bukan ke ruangan sekitarnya. Di permukaan wafer, suhu tetap stabil pada kisaran ±0,1°C, yang diukur di posisi-posisi yang penting dalam proses produksi. Desain lampu ini juga memperhatikan aspek kebersihan; bahan-bahan yang digunakan memenuhi standar Class 1–100, penggunaan lem yang menghasilkan emisi gas yang rendah, serta desain yang mencegah emisi partikel melebihi batas yang ditentukan. Dengan demikian, kualitas produk akan tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya, tanpa perlu terus-menerus menyetel parameter proses.
Mengapa lampu ini cocok digunakan dalam proses litografi
Proses pengolahan fotoresist sangat bergantung pada kondisi termal. Lampu ini mampu menghasilkan profil pemanasan yang stabil, sehingga kontrol dimensi kritis menjadi lebih mudah, dan waktu proses pun berkurang. Respons termal yang cepat juga membantu mengurangi konsumsi energi. Selain itu, jalur pemancaran panas yang terfokus membutuhkan energi yang lebih sedikit dibandingkan oven berarea luas. Ketepatan ini juga berlaku pada fase pengemasan dan pengeringan—hasilnya adalah permukaan yang lebih bersih, dan kualitas produk yang lebih baik.
Detail teknis
Diperlukan sistem pasokan daya dan pendinginan yang memadai. Stabilitas termal bergantung pada suhu pendingin yang stabil dan penempatan komponen yang tepat. Integrasi lampu ini dengan peralatan lainnya relatif mudah, tetapi posisi optik dan sensor perlu disesuaikan dengan geometri substrat. Lakukan uji coba singkat untuk mengetahui profil termalnya, lalu tetapkan parameter proses yang sesuai. Setelah itu, proses produksi akan berjalan secara stabil.