Dalam proses litografi, wafer berukuran 300 mm tidak boleh dibiarkan begitu saja menunggu sampai suhu di dalam alat pemanas mencapai tingkat yang diinginkan. Proses pemanasan “soft bake” dan “hard bake” digunakan untuk mengendalikan suhu tersebut. Jika suhu tidak stabil atau tidak merata, maka pengendalian lebar garis pada wafer akan menjadi sulit. Kami menciptakan tabung pemanas inframerah yang tahan lama, agar variasi suhu tersebut dapat dikurangi.
Yang penting secara teknis
Tabung ini menggunakan emitor inframerah gelombang pendek yang terletak di dalam selubung kuarsa. Dengan demikian, pemanasan berlangsung dengan cepat, dan responsnya sangat cepat, hanya dalam beberapa detik saja. Di area pemanasan, suhu tetap stabil dalam kisaran ±0,1°C. Artinya, setiap wafer mendapatkan kondisi pemanasan yang sama. Daya keluaran tabung ini tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan intensitas cahaya kurang dari 5%. Desain tabung ini juga disesuaikan untuk digunakan di lingkungan kelas 1–100. Selain itu, tabung ini tidak menghasilkan partikel apa pun saat beroperasi.
Mengapa tabung ini cocok digunakan dalam produksi
Tabung ini dirancang khusus untuk proses produksi, bukan hanya untuk mencapai suhu tertentu saja. Dalam proses pemanasan fotoresist, tabung ini mampu menghasilkan profil film yang konsisten, sehingga hasil produksi menjadi lebih baik. Hal ini juga mengurangi jumlah wafer yang rusak akibat fluktuasi suhu. Selain itu, perawatan tabung ini pun lebih mudah dilakukan, karena sistemnya akan mempertahankan suhu yang stabil tanpa menyebabkan overheating. Penggunaan energi juga berkurang, karena sistem ini hanya memanaskan diri sesuai kebutuhan, tanpa menyebabkan suhu yang berlebihan.
Beberapa hal praktis yang perlu diperhatikan
Pemasangan dan penyesuaian posisi tabung harus dilakukan dengan tepat. Tabung harus dipasang sesuai dengan jarak yang ditentukan oleh alat tersebut; jika tidak, akan timbul titik-titik panas yang menyebabkan ketidakteraturan suhu. Setelah tabung dihidupkan, butuh waktu sebentar agar suhu mencapai kondisi stabil. Gantilah tabung tersebut sesuai jadwal perawatan preventif, agar masa operasionalnya tetap terjaga. Sebelum digunakan, pastikan tegangan dan antarmuka koneksi tabung sesuai dengan spesifikasi peralatan Anda.