In der Fertigungshalle kann bereits eine Abweichung des Temperaturprofils um nur ein paar Zehntel Grad dazu führen, dass kritische Abmessungen nicht mehr eingehalten werden – mit der Folge, dass viele Produkte als defekt gelten müssen. Man benötigt daher eine zuverlässige Heizung, die von Zyklus zu Zyklus konstant bleibt.
Was technisch wichtig ist:
Wir haben diese Halbleiterlampen nach dem Prinzip entwickelt, die Wärme genau dort zu kontrollieren, wo es wichtig ist – nämlich auf der Waferoberfläche. Das System sorgt dafür, dass die Temperatur auf der Waferoberfläche innerhalb von ±0,1 °C konstant bleibt. Dadurch werden die Anforderungen bezüglich der Qualität der Wafer erfüllt.
Die Kompatibilität mit Reinräumen ist kein zusätzlicher Vorteil – die verwendeten Materialien und die Konstruktion sorgen dafür, dass die Partikelbildung nahe Null bleibt, selbst in Umgebungen der Klassen 1–100. Die Lampen können 24/7 betrieben werden, ohne dass die Leistung beeinträchtigt wird. Das Temperaturprofil bleibt dabei konstant, sodass die Bedingungen für das Trocknen des Photoresists stets gleich bleiben.
Warum dieses System funktioniert:
Bei der Verarbeitung von Photoresist bedeutet eine gleichmäßige Temperatur eine zuverlässige Entfernung des Lösungsmittels sowie eine effektive Vernetzung des Materials. Dadurch werden Defekte reduziert und die Erträge verbessert. Die Lampen sorgen für eine gleichmäßige Temperaturverteilung auf der Waferoberfläche, während sie gleichzeitig ausreichend sauber bleiben, damit keine Kontaminationen in die Fertigungsanlage gelangen.
Vorteile:
Weniger Abweichungen, weniger Ausschuss. Die Zykluszeiten sind planbar. Der Energieverbrauch bleibt niedrig, da die Heizung präzise und schnell reagiert – es kommt zu keinen Überschreitungen der gewünschten Temperaturen. Zudem führen längere Wartungsintervalle dazu, dass weniger Ersatzteile benötigt werden.
Was man wissen sollte:
Diese Lampen benötigen eine spezielle Strom- und Steuerungsanbindung, die zur jeweiligen Anlagentechnik passt. Es gibt Umbausätze zur Verfügung, doch man muss zunächst die Kompatibilität mit dem genauen Gerätmodell und den Prozessvorgaben überprüfen. Es ist vorauszusehen, dass eine kurze Einrichtungszeit erforderlich ist, um das Temperaturprofil an die Geometrie der Kammer sowie die Anordnung der Wafer anzupassen. Sobald dies erfolgt ist, funktioniert das System mit minimalen Anpassungen. Regelmäßige Überprüfungen der Lampenleistung sowie der Temperatursensoren sorgen dafür, dass der Prozess stets gemäß den Vorgaben abläuft.