半导体实验室烘箱灯

在光刻车间，软烘烤过程不允许有丝毫偏差。温度偏离目标仅0.5°C，光刻胶厚度便会偏离规格，蚀刻窗口随之缩小。烘箱灯不仅仅是热源——它是一个可重复的热处理工艺，别无二致。 我们采用短波红外与石英卤素发射器设计了这款灯。这样可以实现快速、直接的能量传递以及灵敏的热响应。夹具范围内，晶圆级均匀性保持在...