Wafer on Quality Infrared Heater Parts

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Sun, 26 Jul 2026 11:47:56 +0800

Làm khô các tấm wafer MEMS một cách hiệu quả, mà không gặp phải những rắc rối
Khi chế tạo các cảm biến MEMS, hơi ẩm chính là kẻ thù lớn nhất. Bạn không thể chỉ dùng nhiệt để khử hơi ẩm – việc này có thể gây ra áp lực nhiệt quá lớn hoặc làm bẩn bề mặt wafer. Kết quả là chiếc wafer đắt tiền sẽ trở thành vô dụng.

Đó là lý do tại sao chúng tôi sử dụng các thiết bị sưởi bằng tia hồng ngoại công suất cao. Chúng giúp khử hơi ẩm một cách nhanh chóng. Không cần phải chờ đợi những lò sưởi thông thường hoạt động, nhờ đó bạn có thể tiết kiệm được rất nhiều diện tích và giảm thời gian xử lý.

Khoảng cách an toàn khi gia nhiệt wafer

Fri, 24 Jul 2026 09:00:52 +0800

Hãy ngừng lãng phí năng lượng đi!
Khi gia nóng các tấm silic, mỗi watt năng lượng đều rất quan trọng. Vấn đề là các bóng đèn thạch anh thông thường tỏa năng lượng ra khắp mọi hướng – tức là năng lượng bị lãng phí vào việc làm nóng thân máy chứ không phải chính tấm silic cần được gia nóng. Đó là sự lãng phí lớn.

Để khắc phục vấn đề này, chúng ta sử dụng các bộ phản xạ được phủ vàng. Đây là nguyên lý vật lý đơn giản: chúng ta chỉ cần đổi hướng dòng năng lượng, khiến ánh sáng hồng ngoại chiếu trở lại về phía tấm silic.

Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer

Mon, 13 Jul 2026 16:39:45 +0800

Giảm lượng khí thải carbon trong nhà máy sản xuất bán dẫn mà vẫn giữ được năng suất sản xuất
Hãy thành thật mà nói: việc đạt được mục tiêu trung hòa carbon trong các nhà máy sản xuất bán dẫn quả là một thách thức lớn. Một phần lớn năng lượng bị lãng phí xảy ra trong quá trình làm nóng và xử lý wafer. Đó là cách sử dụng năng lượng kém hiệu quả. Chính vì vậy, chúng tôi chọn phương pháp sử dụng tia hồng ngoại để làm nóng. Chúng tôi đã tìm ra cách giảm mức tiêu thụ năng lượng và rút ngắn thời gian xử lý wafer bằng cách sử dụng tia hồng ngoại một cách thông minh hơn.

Cảm biến nhiệt độ dành cho công cụ xử lý wafer

Sun, 12 Jul 2026 05:29:12 +0800

Tại sao chúng tôi chuyển sang phương pháp khử độ ẩm bằng tia hồng ngoại cho các linh kiện bán dẫn không chứa chì

Hãy thừa nhận rằng những lò sấy kiểu cũ thật sự gây nhiều phiền toái. Khi ngành công nghiệp chuyển sang sử dụng các tiêu chuẩn không chứa chì cho các linh kiện bán dẫn, chúng tôi buộc phải suy nghĩ lại về cách xử lý vấn đề này. Chúng tôi ngừng việc sưởi ấm toàn bộ căn phòng và bắt đầu sử dụng phương pháp khử độ ẩm bằng tia hồng ngoại thay thế.

Máy sấy wafer bằng ánh sáng hồng ngoại gần (NIR)

Sat, 27 Jun 2026 01:14:43 +0800

Trong môi trường sản xuất, bạn biết rồi đấy: tấm wafer sau khi được rửa sạch vẫn còn chứa một lượng nước nhỏ. Cần vài phút để loại bỏ hết lượng nước này bằng các bộ sưởi nhiệt; mỗi phút trôi qua đều làm tăng thời gian xử lý. Tệ hơn nữa, việc sưởi nhiệt không đồng đều có thể gây ra áp lực nhiệt, dẫn đến sự lệch lạc trong cấu trúc của tấm wafer. Máy sấy wafer dùng sóng hồng ngoại chính là giải pháp để khắc phục vấn đề này.

Nhà máy sản xuất bộ sưởi dạng wafer dùng trong công nghiệp

Fri, 26 Jun 2026 01:15:51 +0800

Trong quy trình sản xuất, một sự thay đổi nhiệt độ chỉ 0,5°C cũng đủ để làm thay đổi các kích thước quan trọng của wafer, khiến chúng trở thành phế phẩm. Khi các bộ sưởi dùng để làm nóng wafer không thể duy trì nhiệt độ cần thiết trong suốt 24/7, người ta buộc phải hy sinh chất lượng sản phẩm để đổi lấy khả năng hoạt động liên tục. Chúng tôi thiết kế các bộ sưởi dùng trong quy trình sản xuất wafer dựa trên một yêu cầu quan trọng: khả năng kiểm soát nhiệt độ tốt, để hệ thống có thể hoạt động liên tục mà không gặp sự cố.

Bộ làm nóng kiểu Wafer level CSP (Chip Scale Package)

Thu, 18 Jun 2026 00:54:59 +0800

Trên dây chuyền đóng gói, một sự thay đổi nhiệt độ chỉ 0,5 độ cũng đủ để làm hỏng toàn bộ sản phẩm được chế tạo. Độ pH của chất phủ trên bề mặt wafer thay đổi, các khoảng trống dưới lớp vật liệu cũng xuất hiện, và việc sửa chữa lại sẽ làm giảm hiệu suất sản xuất. Các thiết bị CSP hoạt động ở mức nhiệt độ khắt khe hơn so với các loại thiết bị thông thường; vì vậy, bộ sưởi phải là thành phần đáng tin cậy để duy trì nhiệt độ ổn định.

Bộ phận sưởi làm khô tấm wafer MEMS

Sun, 07 Jun 2026 01:10:09 +0800

Xem một wafer MEMS ra khỏi giai đoạn rửa cuối cùng. Nếu bộ sấy nhiệt không thực hiện đúng chức năng, sẽ xuất hiện vệt nước, sau đó độ bám của photoresist sẽ bị sai lệch, và lô hàng coi như mất trước khi bước đo lường (metrology) được tiến hành. Chúng tôi thiết kế bộ sấy nhiệt cho wafer MEMS nhằm loại bỏ biến động đó.

Điều quan trọng thực sự trên dây chuyền Độ đồng đều nhiệt độ trên toàn bộ nền wafer là yếu tố kiểm soát tỷ lệ thành phẩm. Bộ sấy của chúng tôi duy trì độ đồng đều ở mức ±0.1°C trên bề mặt wafer, đảm bảo các chu trình soft bake và hard bake theo đúng công thức—từng chu trình, trong giới hạn dung sai. Hệ thống tương thích với phòng sạch Class 1–100, vật liệu và luồng khí được lựa chọn để không phát sinh hạt bụi. Tính toàn vẹn của photoresist được giữ sạch, và kiểm soát kích thước tới hạn không bị dịch chuyển. Khả năng lặp lại không phải là hứa hẹn; mà được thiết kế sẵn. Sai lệch giữa điểm đặt và nhiệt độ thực tế được đo, ghi lại, và tái lập cho mỗi lô.

Máy sấy làm sạch khay wafer

Fri, 05 Jun 2026 01:14:00 +0800

Ra ngoài dây chuyền 300mm, bạn đã biết quy trình: một băng tải rời khỏi bàn ướt và vẫn mang theo microliter nước DI bị kẹt. Nếu bạn không làm khô độ ẩm đó về trạng thái khô lặp lại được, nó sẽ di chuyển vào lớp photoresist trong quá trình nướng mềm. Độ chính xác CD trôi dạt, và các khuyết tật bắt đầu xuất hiện trên máy quét. Máy sấy vệ sinh băng tải wafer được thiết kế để ngăn chặn phản ứng dây chuyền đó ngay tại cửa.