http://ir-heater-parts.com/vi/tags/mems/ Recent content in MEMS on Quality Infrared Heater Parts Hugo vi Sun, 26 Jul 2026 11:47:56 +0800 http://ir-heater-parts.com/vi/posts/integrating-high-efficiency-infrared-systems-for-mems-sensor-wafer-drying-in-industry-4-0-fabs/ Sun, 26 Jul 2026 11:47:56 +0800 http://ir-heater-parts.com/vi/posts/integrating-high-efficiency-infrared-systems-for-mems-sensor-wafer-drying-in-industry-4-0-fabs/ <p><img src="http://ir-heater-parts.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Máy sấy wafer cảm biến MEMS"></p> <p><strong>Làm khô các tấm wafer MEMS một cách hiệu quả, mà không gặp phải những rắc rối</strong><br> Khi chế tạo các cảm biến MEMS, hơi ẩm chính là kẻ thù lớn nhất. Bạn không thể chỉ dùng nhiệt để khử hơi ẩm – việc này có thể gây ra áp lực nhiệt quá lớn hoặc làm bẩn bề mặt wafer. Kết quả là chiếc wafer đắt tiền sẽ trở thành vô dụng.</p> <p>Đó là lý do tại sao chúng tôi sử dụng các thiết bị sưởi bằng tia hồng ngoại công suất cao. Chúng giúp khử hơi ẩm một cách <a href="https://o-yate.net">nhanh</a> chóng. Không cần phải chờ đợi những lò sưởi thông thường hoạt động, nhờ đó bạn có thể tiết kiệm được rất nhiều diện tích và giảm thời gian xử lý.</p> http://ir-heater-parts.com/vi/posts/mems-wafer-drying-heater/ Sun, 07 Jun 2026 01:10:09 +0800 http://ir-heater-parts.com/vi/posts/mems-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heater-parts.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Bộ phận sưởi làm khô tấm wafer MEMS"></p> <p>Xem một wafer MEMS ra khỏi giai đoạn rửa cuối cùng. Nếu bộ sấy nhiệt không thực hiện đúng chức năng, sẽ xuất hiện vệt nước, sau đó độ bám của <a href="https://goldisgood.com">photoresist</a> sẽ bị sai lệch, và lô hàng coi như mất trước khi bước đo lường (metrology) được tiến hành. Chúng tôi thiết kế bộ sấy nhiệt cho wafer MEMS nhằm loại bỏ biến động đó.</p> <p><strong>Điều quan trọng thực sự trên dây chuyền</strong> Độ đồng đều nhiệt độ trên toàn bộ nền wafer là yếu tố kiểm soát tỷ lệ thành phẩm. Bộ sấy của chúng tôi duy trì độ đồng đều ở mức ±0.1°C trên bề mặt wafer, đảm bảo các chu trình soft bake và hard bake theo đúng công thức—từng chu trình, trong giới hạn dung sai. Hệ thống tương thích với phòng sạch Class 1–100, vật liệu và luồng khí được lựa chọn để không phát sinh hạt bụi. Tính toàn vẹn của photoresist được giữ sạch, và kiểm soát kích thước tới hạn không bị dịch chuyển. Khả năng lặp lại không phải là hứa hẹn; mà được thiết kế sẵn. Sai lệch giữa điểm đặt và nhiệt độ thực tế được đo, ghi lại, và tái lập cho mỗi lô.</p>