Tubo de aquecimento infravermelho de longa duração

Sun, 21 Jun 2026 02:06:52 +0800

No cluster de litografia, um wafer de 300 mm não pode ficar parado, esperando que o aquecedor atinja a temperatura desejada. O processo de aquecimento consiste em “soft bake” e “hard bake”, e se a temperatura variar ou não for uniforme, o controle da largura das linhas do wafer fica comprometido. Por isso, desenvolvemos um tubo de aquecimento infravermelho de longa duração, para eliminar essas variações.

O que é importante, do ponto de vista técnico
O tubo utiliza emissores de infravermelho de onda curta dentro de um invólucro de quartzo, o que permite um aquecimento rápido e direto, com resposta em menos de um segundo. Na área de aquecimento, mantemos uma uniformidade de temperatura de ±0,1°C, o que significa que cada wafer recebe o mesmo tratamento térmico. A potência de saída permanece estável por mais de 5.000 horas, com uma diminuição na intensidade inferior a 5%. O design do tubo permite seu uso em ambientes de classe 1–100, e sua montagem não gera emissão alguma de partículas durante o funcionamento.

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Tubo de aquecimento infravermelho de longa duração