Langdurige infraroodverwarmingstube

Sun, 21 Jun 2026 02:06:52 +0800

In de lithografische productie worden 300 mm grote wafer niet zomaar opzij gelegd terwijl ze wachten tot de verwarmingseenheid klaar is. Zowel ‘soft bake’ als ‘hard bake’ spelen een belangrijke rol bij het bepalen van de benodigde temperatuur. Als de temperatuur niet constant is, wordt het moeilijk om de gewenste dikte van de laag op de wafer te behouden. We hebben daarom een infraroodverwarmingsbuis ontworpen die deze variabiliteit wegneemt.

Wat technisch gezien belangrijk is: De buis bevat korte-golfinfraroodemitters die zich bevinden binnen een kwartsomhulsel. Hierdoor wordt er snel en efficiënt verwarmd, met een reactietijd van minder dan een seconde. In de vervuilingsvrije omgeving blijft de temperatuur binnen ±0,1°C constant, zodat elke wafer dezelfde thermische behandeling krijgt. De prestaties van de buis blijven stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met een intensiteitsafname van minder dan 5%. De buis is geschikt voor gebruik in omgevingen van klasse 1–100. Tijdens het gebruik wordt er geen stof uitgestoten.

Lengte on Quality Infrared Heater Parts

Langdurige infraroodverwarmingstube