<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Quality Infrared Heater Parts</title>
		<link>http://ir-heater-parts.com/ms/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Quality Infrared Heater Parts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 01:14:43 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-parts.com/ms/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengering wafer menggunakan cahaya inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://ir-heater-parts.com/ms/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:14:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-parts.com/ms/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-parts.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Pengering wafer menggunakan cahaya inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di ruang pengeluaran, prosesnya adalah seperti berikut: Wafer yang keluar dari proses pencucian masih mengandungi mikroliter air di permukaannya. Memerlukan masa beberapa minit untuk membuang kelembapan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;tersebut&lt;/a&gt; menggunakan pemanas, dan setiap minit tambahan akan memanjangkan masa proses tersebut. Lebih buruk lagi, pengedaran haba yang tidak sekata boleh menyebabkan tekanan termal yang seterusnya menyebabkan ketidaksepadanan pola pada permukaan wafer. Pengering wafer jenis NIR dibina khusus untuk menyelesaikan masalah ini.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Tenaga inframerah dekat memberi kesan langsung pada air dan lapisan fotoresist. Oleh itu, suhu permukaan wafer dapat dicapai dalam masa beberapa saat sahaja, tanpa perlu menunggu proses pengaliran haba. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, manakala kebolehulangan hasil pengeluaran pula kekal dalam lingkungan ±0.2°C. Sistem pemanas menggunakan pengeluar tenaga jenis kuarsa-halogen yang diselaraskan dengan gelombang inframerah dekat. Kita juga dapat mengawal suhu dengan tepat menggunakan sistem pengukuran suhu tertutup yang terdapat pada permukaan wafer itu sendiri.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
