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		<title>清掃 on Quality Infrared Heater Parts</title>
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		<description>Recent content in 清掃 on Quality Infrared Heater Parts</description>
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				<title>カセット洗浄用赤外線ドライヤー</title>
				<link>http://ir-heater-parts.com/ja/posts/cassette-cleaning-infrared-dryer/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 11:16:47 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-parts.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;カセット洗浄用赤外線ドライヤー&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ウェハ&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;製造&lt;/a&gt;工程において、湿ったカセットは単なるボトルネックというだけでなく、汚染の原因にもなります。残っている水分が表面の欠陥を引き起こし、たった一つの水滴でも生産効率を台無しにする可能性があります。従来の乾燥方法では、熱の偏りが生じ、水が端や角部分に残ってしまいます。そのため、中心部だけでなく、カセット全体を均一に乾燥させる乾燥機が必要です。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h3 id=&#34;赤外線加熱ミリメートル単位の均一性と再現性&#34;&gt;赤外線加熱：ミリメートル単位の均一性と再現性&lt;/h3&gt;&#xA;&lt;p&gt;私たちは、制御されたNIR放射と、ミリメートル単位の精度で均一な熱分布を実現する赤外線乾燥機を開発しました。これにより、カセット全体にわたって再現性の高い&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;温度&lt;/a&gt;プロファイルが得られ、荷物の配置が変わっても均一性が保たれます。フォトレジストの焼成工程においては、熱の安定性が非常に重要です。このシステムは、サイクルごとに安定した性能を発揮し、クリーンルームのクラス1～100に適応し、運転中に粒子が発生することもありません。また、加熱プロファイルは完全に再現可能で、品質管理に役立ちます。&lt;/p&gt;</description>
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				<title>ウエハーキャリアクリーニングドライヤー</title>
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				<pubDate>Fri, 05 Jun 2026 01:13:59 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-parts.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;ウエハーキャリアクリーニングドライヤー&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;300mmラインでの作業&#34;&gt;300mmラインでの作業&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;濡れベンチからキャリアが出てくると、マイクロリットルのDI水が閉じ込められた状態で残っています。この湿気を再現可能な&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;乾燥状態&lt;/a&gt;に引き下げないと、ソフトベーク中にフォトレジストに移動してしまいます。CD公差がずれ、スキャナーに欠陥が現れ始めます。ウェーハキャリアのクリーニングドライヤーは、その連鎖反応を扉のところで止めるために設計されました。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;実際の&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;重要&lt;/a&gt;点&lt;/strong&gt;&#xA;私たちは、キャリア全体で±0.1°Cのウェーハレベルの均一性を保持する&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;高純度熱&lt;/a&gt;システムを中心にドライヤーを設計しました。NIR要素は迅速かつ接触なしに加熱するため、湿気は&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;熱遅延&lt;/a&gt;なしに浮き上がります。高効率のフィルトレーションパスは粒子生成をゼロに保ち、チャンバー環境をクリーンルームClass 1–100に整えます。これにより、フォトレジストのベークステップにおける再現可能な温度制御と再現可能な乾燥状態が得られます。&lt;/p&gt;</description>
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