Pengering inframerah untuk pembersihan kaset

Wed, 17 Jun 2026 11:16:47 +0800

Di area produksi wafer, kaset yang masih basah bukan hanya menjadi penghambat proses produksi, tetapi juga membuka peluang bagi terjadinya kontaminasi. Kelembapan yang tersisa dapat menyebabkan kerusakan pada permukaan kaset, dan hal ini tentu akan berdampak negatif pada kualitas wafer yang dihasilkan. Metode pengeringan konvensional menciptakan gradien suhu yang menyebabkan air tetap menetap di bagian tepi dan sudut-sudut kaset. Anda membutuhkan alat pengering yang mampu mengeringkan seluruh bagian kaset, bukan hanya bagian tengahnya saja.

Pemanasan inframerah: keseragaman hingga tingkat sub-milimeter, hasil yang dapat diprediksi

Alat pengering inframerah ini dirancang berdasarkan emisi cahaya NIR yang terkendali, sehingga menciptakan medan termal yang seragam hingga tingkat sub-milimeter. Dengan demikian, suhu di seluruh permukaan kaset tetap seragam, bahkan ketika konfigurasi kaset berubah. Proses pemanasan fotoresist sangat bergantung pada stabilitas suhu. Sistem ini mampu memberikan hasil yang konsisten dari siklus ke siklusnya. Alat ini juga kompatibel dengan lingkungan cleanroom kelas 1–100, tidak menghasilkan partikel apa pun selama operasi, dan profil pemanasannya dapat direplikasi dengan sempurna untuk tujuan pengendalian proses yang akurat.

Pengering pembersih wadah wafer

Fri, 05 Jun 2026 01:14:00 +0800

Di jalur 300mm, Anda tahu prosedurnya: sebuah carrier keluar dari wet bench dan masih membawa mikroliter air DI yang terjebak. Jika Anda tidak menghilangkan kelembapan tersebut hingga mencapai kondisi kering yang dapat diulang, kelembapan itu akan bermigrasi ke dalam photoresist selama soft bake. Toleransi CD menyimpang, dan cacat mulai muncul di pemindai. Pengering pembersih carrier wafer dirancang untuk menghentikan reaksi berantai itu di pintu.

Apa yang Sebenarnya Penting di Dalamnya
Kami merancang pengering ini dengan sistem thermal murni tinggi yang mempertahankan uniformitas level wafer ±0.1°C di seluruh carrier. Elemen NIR memanaskan dengan cepat dan tanpa kontak, sehingga kelembapan terangkat tanpa penundaan thermal. Jalur filtrasi efisiensi tinggi menjaga generasi partikel di angka nol dan menjaga lingkungan ruang bersih sesuai dengan kelas 1–100. Hasilnya adalah kontrol suhu yang dapat diulang untuk langkah bake photoresist dan kondisi kering yang dapat diulang, siklus demi siklus.

Pembersihan on Quality Infrared Heater Parts

Pengering inframerah untuk pembersihan kaset

Pemanasan inframerah: keseragaman hingga tingkat sub-milimeter, hasil yang dapat diprediksi

Pengering pembersih wadah wafer