<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Quality Infrared Heater Parts</title>
		<link>http://ir-heater-parts.com/id/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Quality Infrared Heater Parts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 01:14:43 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-parts.com/id/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemangkas kelembapan wafer menggunakan cahaya inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://ir-heater-parts.com/id/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:14:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-parts.com/id/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-parts.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Pemangkas kelembapan wafer menggunakan cahaya inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasilitas produksi, prosesnya sudah diketahui: wafer yang keluar dari proses pembersihan masih mengandung mikroliter air di permukaannya. Butuh waktu beberapa menit agar air tersebut dapat dihilangkan menggunakan pemanas, dan setiap menit tambahan berarti peningkatan waktu proses. Lebih buruk lagi, pemanasan yang tidak merata dapat menyebabkan stres termal, yang berdampak pada ketidaksesuaian pola permukaan wafer. Pengering wafer berbasis teknologi NIR dirancang untuk mengatasi masalah ini.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Yang penting secara teknis:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Energi inframerah dekat bekerja langsung pada air dan bahan fotoresist, sehingga suhu permukaan wafer dapat mencapai titik yang diinginkan dalam hitungan detik, tanpa perlu menunggu proses konduksi panas. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitas antar batch berada dalam kisaran ±0,2°C. Array pemanas menggunakan emitter kuarsa-halogen yang disetel pada rentang inframerah dekat, dan kontrol suhu dilakukan melalui &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;sistem&lt;/a&gt; pyrometri tertutup yang terletak tepat di permukaan wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
