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		<title>Horno on Quality Infrared Heater Parts</title>
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		<description>Recent content in Horno on Quality Infrared Heater Parts</description>
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				<title>Hornos para salas limpias _con calentador por infrarrojos</title>
				<link>http://ir-heater-parts.com/es/posts/clean-room-oven-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 22 Jul 2026 02:22:19 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-parts.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Hornos para salas limpias _con calentador por infrarrojos&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;¿Por qué utilizamos recubrimientos de oro en el procesamiento de obleas?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Cuando se construye un horno para salas limpias, el verdadero desafío no es &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;simplemente&lt;/a&gt; aumentar la temperatura. Lo importante es asegurarse de que el calor llegue realmente al lugar donde se necesita.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Si se calientan las obleas de silicio y la energía se dispersa por todo el chasis en lugar de dirigirse al objetivo deseado, entonces estamos perdiendo energía. Peor aún, eso convierte las paredes del horno en un gran disipador de calor. Aquí es donde entran en juego los reflectores recubiertos de oro.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Lámpara de horno de laboratorio de semiconductores</title>
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				<pubDate>Sat, 06 Jun 2026 01:01:44 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-parts.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Lámpara de horno de laboratorio de semiconductores&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En el piso de litografía, no se puede permitir ninguna desviación en el soft bake. Un deslizamiento de solo 0.5°C fuera del objetivo hace que el espesor del fotoresistente se salga de especificación, y antes de que se dé cuenta la ventana de grabado se está reduciendo. La lámpara del horno no es solo una fuente de calor: es un proceso térmico repetible, punto final.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Construimos esta lámpara alrededor del infrarrojo de onda corta con emisores halógenos de cuarzo. Esto proporciona una transferencia de energía rápida y directa, con una respuesta térmica ágil. Sobre el chuck, la uniformidad a nivel wafer se mantiene en ±0.1°C, con control en lazo cerrado que mantiene el presupuesto térmico constante desde el soft bake hasta el hard bake.&lt;/p&gt;</description>
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