Nahe infraroter (NIR) Wafer Trockner

Sat, 27 Jun 2026 01:14:43 +0800

In der Fertigungshalle gilt folgendes Prinzip: Ein Wafer kommt aus dem Reinigungsprozess und enthält immer noch Mikroliter an Wasser. Es dauert Minuten, bis die Heizplatten das Wasser entfernt haben – jede Minute verlängert somit die Gesamtzeit des Prozesses. Schlimmer noch: Uneinheitliche Erwärmung kann zu thermischen Spannungen führen, die sich als Fehlstellungen im Muster bemerkbar machen. Der NIR-Wafertrockner wurde genau dazu entwickelt, dieses Problem zu lösen.

Was technisch wichtig ist:
Nahinfrarotstrahlung trifft direkt auf Wasser und Photoresist. Dadurch wird die Oberfläche innerhalb von Sekunden auf den gewünschten Temperaturwert gebracht – ohne dass auf Wärmeleitung gewartet werden muss. Die Temperaturgleichmäßigkeit über die ganze Fläche des Wafer bleibt bei ±0,1°C, während die Wiederholgenauigkeit zwischen den verschiedenen Chargen bei ±0,2°C liegt. Die Heizelemente bestehen aus Quarz-Halogen-Emittoren, die auf die NIR-Frequenz abgestimmt sind. Zudem wird die Temperatur durch eine geschlossene Pyrometrie-Steuerung genau kontrolliert.

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Nahe infraroter (NIR) Wafer Trockner