Di fasilitas produksi, prosesnya sudah diketahui: wafer yang keluar dari proses pembersihan masih mengandung mikroliter air di permukaannya. Butuh waktu beberapa menit agar air tersebut dapat dihilangkan menggunakan pemanas, dan setiap menit tambahan berarti peningkatan waktu proses. Lebih buruk lagi, pemanasan yang tidak merata dapat menyebabkan stres termal, yang berdampak pada ketidaksesuaian pola permukaan wafer. Pengering wafer berbasis teknologi NIR dirancang untuk mengatasi masalah ini.
Yang penting secara teknis:
Energi inframerah dekat bekerja langsung pada air dan bahan fotoresist, sehingga suhu permukaan wafer dapat mencapai titik yang diinginkan dalam hitungan detik, tanpa perlu menunggu proses konduksi panas. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitas antar batch berada dalam kisaran ±0,2°C. Array pemanas menggunakan emitter kuarsa-halogen yang disetel pada rentang inframerah dekat, dan kontrol suhu dilakukan melalui sistem pyrometri tertutup yang terletak tepat di permukaan wafer.
Pembentukan partikel juga diminimalkan. Ruang pemrosesan ini kompatibel dengan standar Class 1–100, dengan aliran udara berupa aliran laminar dan sistem pengeluaran udara yang dilengkapi HEPA. Sistem pengikat wafer tanpa kontak memastikan permukaan depan wafer tetap bersih, tanpa adanya bekas goresan mekanis.
Mengapa sesuai untuk fasilitas produksi:
Diperlukan pengering yang dapat ditempatkan di antara alat pemrosesan wafer tanpa mengganggu tata letaknya. Alat ini memiliki ukuran yang kecil, dapat berkomunikasi melalui protokol SECS/GEM, dan dapat beroperasi 24/7 tanpa hambatan. Profil pemanasan yang digunakan sudah ditentukan sebelumnya, sehingga saat produk berubah, operator tidak perlu menyetel ulang parameter pemanasan.
Penggunaan energi berkurang karena teknologi NIR hanya memanaskan bagian yang perlu dipanaskan saja, bukan seluruh permukaan wafer. Proses pemanasan bahan fotoresist tetap berada dalam batas yang ditentukan, sehingga variasi dimensi wafer menjadi lebih kecil, dan risiko perbaikan pun berkurang.
Apa yang perlu dipersiapkan:
Pengering NIR membutuhkan sumber daya listrik tersendiri serta sistem pendingin yang efektif untuk menjaga stabilitas suhu. Alat ini dapat digunakan dengan sebagian besar alat pemrosesan wafer berukuran 300 mm, tetapi Anda tetap perlu memverifikasi antarmuka mekanis dan saluran pengeluaran udara saat pemasangan.
Waktu yang diperlukan untuk proses kalibrasi dan penyesuaian pengaturan adalah sekitar dua minggu. Setelah itu, proses produksi akan berjalan lancar, meski tetap memerlukan perhatian khusus.